ข่าวฝาก >> ธุรกิจ
Molecular Imprints, Inc. (MII) นำเสนอระบบลิโทกราฟีขนาด 450 มม. ที่ทันสมัยระบบแรกให้กับผู้ผลิตเซมิคอนดักเตอร์ชั้นนำ เพื่อสนับสนุนโครงการ 450 มม. ทั่วโลก

วันที่ 22 ม.ค. 2556 )
IQML
 
ออสติน, เท็กซัส--18 ม.ค.--พีอาร์นิวส์ไวร์/อินโฟเควสท์
- เทคโนโลยี J-FIL(TM) ของ MII ช่วยเร่งให้อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์หันมาผลิตระบบขนาด 450 มม. ภายใน 2 ปี
Molecular Imprints, Inc. ผู้นำด้านเทคโนโลยีเซมิคอนดักเตอร์ลิโทกราฟีที่ทันสมัย ประกาศในวันนี้ถึงการส่งมอบแพลตฟอร์มระบบลิโทกราฟีที่ก้าวหน้าเครื่องแรก และมีความสามารถด้านการทำแพทเทิร์นสารซิลิคอนตั้งต้นของชิปคอมพิวเตอร์ขนาด 450 มม. เครื่อง Imprio(R) 450 ได้รับการยอมรับจากผู้ผลิตเซมิคอนดักเตอร์ชั้นนำ ณ สิ้นปี 2555 จนถึงปัจจุบันเครื่องได้ถูกนำมาใช้เพื่อรองรับความต้องการในการพัฒนากระบวนการชิปคอมพิวเตอร์ขนาด 450 มม.ซึ่งเป็นไปตามสัญญาให้บริการชิปคอมพิวเตอร์ระยะเวลาหลายปี เพื่ออำนวยความสะดวกให้กับอุตสาหกรรมเซมิคอนดัคเตอร์เปลี่ยนแปลงไปสู่การผลิตชิปขนาด 450 มม.โดยใช้ต้นทุนต่ำลง โรเบิร์ต อี. บรูค รองประธานและผู้จัดการทั่วไปฝ่ายวิศวกรรมผลิตภัณฑ์เทคโนโลยีของอินเทล คอร์ปอเรชั่น ได้จัดแสดงหนึ่งในชิปคอมพิวเตอร์ที่ใช้แพทเทิร์น 450 มม.เต็มขนาดชุดแรกในงาน SEMI’s Industry Strategy Symposium (ISS) ที่ฮาล์ฟมูนเบย์ รัฐแคลิฟอร์เนีย เมื่อวันที่ 14 มกราคม 2556 ที่ผ่านมา
"อุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์และห่วงโซ่อุปทานของผู้ผลิตจะต้องเข้าถึงชิปคอมพิวเตอร์ในขนาดแพทเทิร์น 450 มม.ที่มีคุณภาพสูงได้ตั้งแต่เนิ่นๆ เพื่อพัฒนาและเพิ่มประสิทธิภาพให้กับผลิตภัณฑ์และขั้นตอนต่างๆให้ทันท่วงทีกับการเปลี่ยนแปลง” มาร์ค เมลเลียร์-สมิธ ประธานและซีอีโอของ Molecular Imprints กล่าว "เทคโนโลยี Jet and Flash(TM) Imprint Lithography (J-FIL(TM) ของเราเป็นโซลูชั่นลิโทกราฟฟิคเพียงโซลูชั่นเดียวที่มีจำหน่ายในปัจจุบัน และยังตอบโจทย์ความต้องการด้านฟีเจอร์ที่มีความละเอียดในการเปลี่ยนแปลงไปสู่ขนาด 450 มม.ของอุตสาหกรรม เทคโนโลยี J-FIL(TM) นำเสนอการทำแพทเทิร์น 24 มม.ด้วยรอยหยักของขอบที่ละเอียด (น้อยกว่า 2 nm LER, 3 sigma) และขนาดของหน่วย (1.2nm CDU, 3 sigma) ที่สามารถขยายให้เป็น 10 nm ด้วยขั้นตอนการทำแพทเทิร์นที่ง่ายดายในขั้นตอนเดียว แพลตฟอร์ม Imprio(R) 450 มีระบบการกำหนดขั้นตอนใหม่และการออกแบบสารตั้งต้นที่ช่วยให้ผลิตชิปขนาด 300 มม.และ 450 มม.เป็นไปอย่างต่อเนื่อง การวางจำหน่ายเครื่องลิโทกราฟีที่ทันสมัยในปัจจุบันเพื่อรองรับโครงการนี้ทั่วโลก จะช่วยเร่งให้เกิดการเปลี่ยนแปลงไปสู่การผลิตชิป 450 มม.ได้อย่างน้อยที่สุดภายในระยะเวลา 2 ปี โดยในยุคที่โครงการพัฒนาเครื่องลิโทกราฟีแบบใช้แสงซึ่งต้องใช้ระยะเวลาหลายปีและเงินลงทุนหลายพันล้านดอลลาร์กลายเป็นเรื่องปกติ เราสามารถออกแบบ สร้าง และ นำเสนอแพลตฟอร์มเครื่องลิโทกราฟีในระดับนาโนได้ภายใน 1 ปีหลังจากที่ได้รับใบสั่งซื้อจากลูกค้า ผมขอขอบคุณทีมงานของ Molecular Imprints ลูกค้าผู้ผลิตเซมิคอนดักเตอร์ของเรา และห่วงโซ่อุปทานของเราเป็นพิเศษ ที่ช่วยให้เราประสบความสำเร็จที่ยิ่งใหญ่นี้ได้อย่างแท้จริง”
ความได้เปรียบเรื่องต้นทุนในการเป็นเจ้าของ (CoO) ของ J-FIL นั้น เกิดขึ้นจากการหลีกเลี่ยงแหล่งแสง EUV ที่มีพลังงานจำกัด, เลนส์แสงที่ซับซ้อนและกระจก และความยากลำบากในการสร้างภาพโดยใช้สารที่มีความไวต่อแสงสูงมาก ช่วยให้ J-FIL มีความเหมาะสมกับการผลิตหน่วยความจำเซมิคอนดักเตอร์ ระบบการกำหนดแพทเทิร์น 450 มม. นี้ เมื่อทำงานควบคู่กับโมดูลแบบหลายคำสั่งของเราที่ได้มีการเปิดตัวเมื่อไม่นานนี้ ถือเป็นการตอกย้ำถึงความก้าวหน้าครั้งใหญ่ของ Molecular Imprints ในการนำเทคโนโลยี J-FIL มาผลิตอุปกรณ์ CMOS ที่ก้าวหน้าเป็นจำนวนมาก
เกี่ยวกับ Molecular Imprints, Inc.
Molecular Imprints, Inc. (MII) เป็นผู้นำด้านเทคโนโลยีระบบการกำหนดแพทเทิร์นในระดับนาโนที่มีความคมชัดสูงและต้นทุนในการเป็นเจ้าของต่ำ และโซลูชั่นต่างๆสำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ หน้าจอแสดงผล และฮาร์ดดิสก์ไดรฟ์ (HDD) MII ใช้นวัตกรรม Jet and Flash(TM) Imprint Lithography (J-FIL(TM)) ของบริษัทร่วมกับ IntelliJet(TM) ซึ่งเป็นแอพพลิเคชั่นด้านวัสดุเพื่อเป็นผู้นำในตลาดโลกและเทคโนโลยีที่เกี่ยวกับโซลูชั่นการกำหนดแพทเทิร์นสำหรับอุปกรณ์จัดเก็บข้อมูลและหน่วยความจำ ตลอดจนช่วยสนับสนุนตลาดเกิดใหม่ในอุตสาหกรรมหน้าจอแสดงผล พลังงานสะอาด เทคโนโลยีชีวภาพ และอุตสาหกรรมอื่นๆ MII ช่วยในการทำแพทเทิร์นระดับนาโนด้วยการนำเสนอโซลูชั่นการทำแพทเทิร์นในระดับนาโนแบบครบวงจรในราคาที่สามารถเป็นเจ้าของได้ พร้อมความสามารถด้านการทำงานร่วมกันและสามารถขยายไปยังระดับความคมชัดต่ำกว่าระดับ 10 นาโนเมตร สามารถเยี่ยมชมเพื่อดู
รายละเอียดเพิ่มเติมหรือติดตามเราผ่านทางทวิตเตอร์ได้ที่
 
www.molecularimprints.com
ติดต่อฝ่ายประชาสัมพันธ์ของบริษัท
พอล โฮฟแมนน์ (Paul Hofemann)
Molecular Imprints, Inc.
โทร: +1-512-339-7760 ต่อ 311
อีเมล: phofemann@molecularimprints.com
จำนวนคนอ่าน 246 คน จำนวนคนโหวต 0 คน

กระทรวงแรงงาน